Key Features and Options

  • 特殊平台系统
  • 多维刻写
  • 客户自定义激光器

Special Systems- Lithography Systems designed for Custom Applications

Special Systems

针对客户实际需求和应用所开发的设备

海德堡仪器对新型以及特殊的掩膜印刷系统的研发有着成熟的经验。

如果客户在用特殊掩膜板制作精密结构方面或者特殊的功能的话，也可以把想法告诉我们，因为我们有许多不同的特殊解决方案。

专为微光路部件制作设计的特殊设备

为了实现用于透镜的曲面印刷，我们与Fraunhofer应用光学及精密工程研究机构 ( IOF)共同研发用于平面或者凹凸掩膜板掩膜印刷技术。

 

Freeform System Micro Optics
Freeform System Micro Optics
- Pictures Courtesy of IOF -

该设备提供灰阶功能并能刻写最小到1微米的结构使之能够有效生成复杂微光学元件及桥接, 折射及衍射集合元件. 您能从我们的下载页面找到许多相关该设备的链接, 或者观看相关的短片 Movie [wmv / 3 MB].

特殊尺寸材料的平版印刷系统

我们的标准设备能够适应多种侧边最大到1600X1400的任意尺寸材料. 对应大尺寸材料需要特殊设计的系统, 该系统材料固定不动, 而曝光单元在曝光中运动.我们为3100X50毫米的线性编码器及大面积材料2400X1900毫米制造设计安装过此类设备, 后者安装了全自动装卸板系统.

 

Large Area Mask Automatic Handling System
Large Area Mask Automatic Handling System

深紫外平板印刷系统

我们设备采用的激光光源波长从355 纳米到532纳米, 使之能够对所有的标准感光胶进行曝光. 但是, 针对需要波长更短特殊应用的存在, 我们开发并安装了带244纳米波长深紫外激光的平板印刷系统, 该系统能够刻写最小到200纳米的独立结构, 600纳米线及线缝距.

 

联系我们 可以为您提供您所需要的解决方案。