Key Features and Options

  • 刻写最大面积 200 x 200 mm2
  • 刻写最小结构尺寸 0.6 µm
  • 最小分辨距离 10 nm
  • 多种曝光模式
  • 3D 曝光模式
  • CCD成像坐标校准系统
  • 双面校准系统
  • 带温度控制的机壳
  • 可选配客户指定的激光光源
  • 光学及气压控制自动对焦
  • 脚本扩展功能
  • 支持多种客户图形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)
  • 在线图形数据传输
  • 平台坐标矩阵校正
  • 自动上板系统

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DWL 200 - The Fast and Flexible Laser Lithography System

DWL 2000

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高速多用途平版印刷系统

 

DWL 2000 是一种高速，高适应性，高精度的掩模激光直写系统。除了擅长绘刻各种2D图形，也可以在厚胶板材上绘刻3D图形。

刻写最大面积达到200 x 200 mm2 ，该系统是MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs及其它需要刻画微观结构应用的首选.

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