Key Features and Options

  • 刻写最大面积 200 x 200 mm2
  • 聚焦距离达到 0.6 µm
  • 最小分辨距离50 nm
  • 多种曝光模式
  • 3D 曝光模式
  • 向量式曝光及光栅式曝光模式
  • CCD成像坐标校准系统
  • 双面校准系统
  • 带温度控制的机壳
  • 可选配客户指定的激光光源
  • 光学及气压控制自动对焦
  • 脚本扩展功能
  • 支持多种客户图形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

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DWL 66FS- The Ultimate R&D Laser Lithography Tool

DWL 66FS

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激光平版印刷研发的优选设备

 

DWL 66FS系统是集经济性，精度高，体积小等优点于一身的激光直写系统。

由于它良好的适应性和兼容性使得他成为MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs和其他微观研究领域的重要仪器。

目前世界上100多个大学和研究机构都在使用DWL 66FS， 其中的许多设备特性是在与这些研究机构的紧密合作中进行的改进。

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