Key Features and Options

  • 刻写最大面积 800 x 800 mm2
  • 刻写最小尺寸结构 0.7 µm
  • 最小分辨距离 20 nm
  • 多种曝光模式
  • 自动更换写头
  • 高级3D曝光模式
  • 测量及校准系统
  • 带温度控制的机壳
  • 可选配客户指定的激光光源
  • 在线图形数据传输
  • 自动上板系统
  • 支持多种客户图形格式 (DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)
  • 平台坐标矩阵校正
  • 寻边侦测系统

DWL 8000 - Advanced Large Area 2D and 3D Exposure System

DWL 8000

Pattern

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高精度大面积的2D,3D微观图形绘刻

 

DWL 8000系列是专门为高精度大面积的掩模板光刻机,它可以应用在微型光路,MEMS,显示和传感技术方面。我们将多年来在小型设备上的灰阶技术经验成功引进到DWL 8000这种大型设备中来。

该技术将灰阶光掩膜从处理程序中移除, 从而大大降低成本并极大的提高交货期,更重要的是,灰阶曝光的各个参数可以更方便快捷的被定义,在板材蚀刻后,3D效果可以用其他金属介质复制,在蚀刻或者镀镍后,塑模。

除了它出众的3D绘刻能力外,DWL 8000 可以应用在2D方面批量生产掩模板方面。

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