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德商海德堡激光技术（深圳）有限公司
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Environment Chamber

为系统提供非常稳定的环境对于或者高质量的曝光生产是必须的。环境温度的变化或者气压的不稳定，可能会影响光学元件的表现，影响干涉仪系统或者因为基板的热力学的延展性从而产生位置不精确等不良影响，特别是进行高精度或者需要长时间曝光时环境的稳定性相当重要。

因此我们的系统由类似于环境小室样的外壳包围住，用于提供稳定的温度和气压流量。任何可能存在的环境条件变化，都会存储并由软件通过光学系统进行补偿。不同的系统有适合自身设计的外壳以获得优化的性能表现。

DWL 2000 VPG 1600
DWL 2000 VPG 1600